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科学指南
金刚石及相关材料16（2007）253-261
以化学气相沉积（CVD）获得的大面积金刚石薄膜的抛光技
术的评估
H.Y. Tsaia，*, C.J. Ting , C.P. Chou
b,cb
a机械与机电工程 学系，国立台湾海洋大学，台湾202号
b机械工程学系，国立交通大学，台湾300号
c机械与系统研究所，工业技术研究院，台湾310号
收稿2006年3月4日；修稿2006年5月26日；接受2006年6月24日
网上提供2006年8月10日
摘要
目前的研究是比较几种化学气相沉积（CVD）金刚石薄膜的抛光技术。虽然金刚石不同抛光技术的研究已进行多年，但是有些问题仍需要进一步审查，以便合算地推广。在目前的工作中，通过微波等离子体增强的化学气相沉积法（CVD）是用来获取在1332 cm-1处的拉曼峰处半最大值全宽度（FWHM）小于10波数的金刚石薄膜。采用机械加工抛光，化学辅助机械抛光，热化学抛光，准分子激光消融术，催化反应辅助研磨来加工金刚石薄膜。在抛光前后通过表面光度仪、原子力显微镜和扫描电子显微镜来评估金刚石的表面形态。分析比较上述技术的结果。
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关键词：金刚石膜抛光；化学辅助机械抛光；催化反应辅助磨削；热化学抛光
1. 介绍
工业人造金刚石具有优异的物理和化学特性。它的硬度最高（约90 GPa），压缩强度（1.2×1012Nm-2），导热系数（2×103 W m 1 K 1），声波速度（17.5 km s 1）。 1970年，Derjaguin和Fedoseev[1]发现了用化学气相沉积法生产人造金刚石的基本方法。从此，人们用大量的基板来生产CVD金刚石，同时研究了许多CVD金刚石的应用。现在，为了增长使用周期[5,6]，它广泛地用于传统切削刀具和磨料中。近年来，CVD技术的进步，使CVD金刚石在工业上的应用更广泛，如通讯，光电器件，金刚石半导体。
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