第一章 光电材料与器件基础
非平衡载流子:注入方法、准费米能级;
PN结:PN结空间电荷区的形成过程;加偏压的PN结的能带图画法;PN结击穿(齐纳击穿、雪崩击穿)
金属-半导体结:肖特基势垒的形成过程;加偏压的肖特基势垒的能带图;欧姆接触
半导体异质结构:异质结定义;异质结的特性;量子阱;超晶格;量子阱和超晶格的异同
第二章 光电材料的生长与器件制备
外延生长;分子束外延;MBE系统的主要特点;MBE外延生长机理;MOCVD系统的主要特点;MOCVD生长过程的主要阶段;
第三章 LED
辐射复合与非辐射复合:辐射复合、非辐射复合;间接辐射复合的5种主要形式;等电子陷阱;俄歇复合;
LED的基本原理:LED的发光过程
LED的特性参数:I-V特性;外量子效率,内量子效率;LED设计成在P侧发光较为有利的原因;提高注射效率的途径;
LED的光取出原理及方法:减少材料吸收而产生的损失采取的措施;增加光取出效率的方法(增加内部量子效率、改进内部结构、改变表面结构及外形、基本
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